APA Style
MEIRIYANA, WANTI. (2005).
Pengaruh temperatur substrat terhadap penumbuhan lapisan tipis silikon germanium amorf terhidrogenasi (a:SIGe:H) dengan menggunakan metode PECVD (1).
Banda Aceh:
Fak. Mipa Unsyiah.
Chicago Style
MEIRIYANA, WANTI.
Pengaruh temperatur substrat terhadap penumbuhan lapisan tipis silikon germanium amorf terhidrogenasi (a:SIGe:H) dengan menggunakan metode PECVD.
1
Banda Aceh:
Fak. Mipa Unsyiah,
2005.
SKR.
MLA Style
MEIRIYANA, WANTI.
Pengaruh temperatur substrat terhadap penumbuhan lapisan tipis silikon germanium amorf terhidrogenasi (a:SIGe:H) dengan menggunakan metode PECVD.
1
Banda Aceh:
Fak. Mipa Unsyiah,
2005.
SKR.
Turabian Style
MEIRIYANA, WANTI.
Pengaruh temperatur substrat terhadap penumbuhan lapisan tipis silikon germanium amorf terhidrogenasi (a:SIGe:H) dengan menggunakan metode PECVD.
1
Banda Aceh:
Fak. Mipa Unsyiah,
2005.
SKR.